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　　在銘牌制作蝕刻加工的工藝中，除不經(jīng)任何防蝕處理的整體蝕刻方法外，都必須要注意防蝕層下蝕刻的“蔓延”問(wèn)題，也就是我們常說(shuō)的側(cè)腐蝕。側(cè)腐蝕的大小直接關(guān)系到圖文的精度和蝕刻線條的極限尺寸。通常把防蝕層下的水平方向的蝕刻寬度A稱(chēng)為側(cè)蝕量，側(cè)蝕量A與蝕刻深度H的比值就是側(cè)蝕率F：

　　蝕刻的精度和側(cè)蝕問(wèn)題介紹

　　F=A/H式中：A為側(cè)蝕刻量(mm)，H為蝕刻深度(mm);F為側(cè)蝕刻率或腐蝕因素，用以表示不同條件下側(cè)蝕刻量與蝕刻深度之間的關(guān)系。

　　以上有關(guān)圓弧R的大小受蝕刻深度，被蝕刻窗口的最小寬度與蝕刻深度的比值、蝕刻液的組成、蝕刻方法及材料種類(lèi)等的影響較大。側(cè)蝕刻的量決定了化學(xué)蝕刻的精度，側(cè)蝕量越小，加工的精度越高，適用的范圍就越寬，反之，加工的精度低，適用范圍小。

　　側(cè)蝕量的大小主要受金屬材料的影響，在常用的幾種金屬材料中，以銅的側(cè)蝕量最小，鋁的側(cè)蝕量最大。選擇更為優(yōu)越的蝕刻劑，雖然蝕刻的速度提高并不明顯，但的確可改善金屬銘牌蝕刻加工的側(cè)蝕量。